產(chǎn)品型號(hào)
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產(chǎn)品分類(lèi)
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v 產(chǎn)品概述：系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室、主抽過(guò)渡管路、旋轉(zhuǎn)基片架、光加熱系統(tǒng)、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)等部分組成
v 設(shè)備用途：本系統(tǒng)配有一套電子槍及電源，可滿足在Al，Ni，Ag，Pt，Pd，Mo,Cr和Ti等多種金屬和介質(zhì)膜基片上均勻沉積多層膜的需要
v 真空室尺寸：定制
v 極限真空度：≤6.0E-5Pa
v 沉積源：6個(gè)40cc坩堝
v 溫度：300℃
v 電控描述：全自動(dòng)
v 工藝：片內(nèi)膜厚均勻性：≤±3%
v 特色參數(shù)：樣品尺寸及數(shù)量可定制，工件架有拱形基片架和行星形基片架
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